净化工程安装简述对于净化工程需要的设备及洁净室中的温湿度控制
无尘净化车间净化需哪些设备，净化工程的安全运行，离不开设备的支持，那么对于净化工程需要哪些设备您都了解么，接下来就由净化工程安装厂家的小编这就为您解答。无尘净化车间进风系统要安装，新风过滤箱，中央净化空调中央净化空调要分为初效/中效/高效三个过滤段末端有高效送风口。有必要时还装有净化增压箱。无尘净化车间回风系统要安装，回风口，过滤初效器，中效回风箱。进入无尘净化车间之前先进入缓冲区，缓冲区门安装电子互锁，更衣处放置洁净储衣柜，空气清新机。人和货物进入无尘净化车间须经过，风淋室，货淋室，传递窗主要传递小物品。在无尘净化车间内局部需要达到10-1000级地方安装垂直层流工作台，层流罩（FFU），洁净棚可移式净化工作棚，自净器。测洁净室洁净度用，激光尘埃粒子计数器。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。
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